কোভার এমআইএম যন্ত্রাংশ

কোভার এমআইএম যন্ত্রাংশ

স্ট্যান্ডার্ডে নির্দিষ্ট করা সম্প্রসারণ সহগ এবং নিম্ন তাপমাত্রার মাইক্রোস্ট্রাকচার স্থায়িত্বের জন্য কর্মক্ষমতা পরীক্ষার নমুনাগুলিকে হাইড্রোজেন বায়ুমণ্ডলে 900 ডিগ্রি ±20 ডিগ্রিতে উত্তপ্ত করা হয়, 1 ঘন্টার জন্য রাখা হয়, তারপর 1100 ডিগ্রি ±20 ডিগ্রিতে উত্তপ্ত করা হয় এবং 15 মিনিটের জন্য রাখা হয়। তাপমাত্রা 5 ডিগ্রি / মিনিটের বেশি নয় গতি 200 ডিগ্রির নিচে শীতল করা হয়।

কোভার মেটাল ইনজেকশন মোল্ডেড পার্টস এর পরিচিতি

কোভার এমআইএম যন্ত্রাংশ

আইটেম

উপাদান

উৎপাদন প্রক্রিয়া

সিন্টারিং তাপমাত্রা

ছাঁচ

কাস্টম


কভার খাদ

কভার খাদ

মেটাল ইনজেকশন ছাঁচনির্মাণ

1550 ডিগ্রী

কাস্টমাইজ করা

হ্যাঁ


রাসায়নিক রচনা

C {{0}} এর থেকে কম বা সমান৷{4}}3 শতাংশ Mn কম বা সমান 0.50 শতাংশ Si কম বা সমান {{ 10}.30 শতাংশ P 0.020 শতাংশ S এর থেকে কম বা সমান 0.20 শতাংশের চেয়ে বা সমান
নি=28৷{1}}.5 শতাংশ কো=16৷{4}}.8 শতাংশ
Fe=উদ্বৃত্ত
যে শর্তে গড় রৈখিক সম্প্রসারণ সহগ স্ট্যান্ডার্ডে পৌঁছায়, নিকেল এবং কোবাল্টের বিষয়বস্তু সারণি {{0}}-এ নির্দিষ্ট পরিসর থেকে বিচ্যুত হওয়ার অনুমতি দেওয়া হয়। অ্যালুমিনিয়াম, ম্যাগনেসিয়াম, জিরকোনিয়াম এবং টাইটানিয়ামের পরিমাণ প্রতিটি 0.10 শতাংশের বেশি হওয়া উচিত নয় এবং মোট পরিমাণ 0.20 শতাংশের বেশি হওয়া উচিত নয়।

তাপ চিকিত্সা ব্যবস্থা

স্ট্যান্ডার্ডে নির্দিষ্ট করা সম্প্রসারণ সহগ এবং নিম্ন তাপমাত্রার মাইক্রোস্ট্রাকচার স্থায়িত্বের জন্য কর্মক্ষমতা পরীক্ষার নমুনাগুলিকে হাইড্রোজেন বায়ুমণ্ডলে 900 ডিগ্রি ±20 ডিগ্রিতে উত্তপ্ত করা হয়, 1 ঘন্টার জন্য রাখা হয়, তারপর 1100 ডিগ্রি ±20 ডিগ্রিতে উত্তপ্ত করা হয় এবং 15 মিনিটের জন্য রাখা হয়। তাপমাত্রা 5 ডিগ্রি / মিনিটের বেশি নয় গতি 200 ডিগ্রির নিচে শীতল করা হয়।

উপলব্ধ উপকরণ

নিম্ন কার্বন স্টেইনলেস স্টীল, টাইটানিয়াম খাদ (Ti, TC4), তামার খাদ, টাংস্টেন খাদ, সিমেন্টেড কার্বাইড, উচ্চ তাপমাত্রার খাদ (718, 713)

শেষ করুন

মাত্রিক নির্ভুলতা

পণ্যের ঘনত্ব

চেহারা চিকিত্সা

উপযুক্ত ওজন

রুক্ষতা 1-5μm

(±{{0}}.1 শতাংশ -±0.5 শতাংশ )

95-100 শতাংশ

নাকাল

0.03g-400g)


Qinhuangdao Zhongwei Precision Machinery Co., Ltd. হল কপার অ্যালয় মেটাল ইনজেকশন ছাঁচনির্মাণ, লোহা-ভিত্তিক ধাতু ইনজেকশন ছাঁচনির্মাণ, স্টেইনলেস স্টীল-ভিত্তিক ধাতব ইনজেকশন ছাঁচনির্মাণ, অ্যালুমিনিয়াম অ্যালয় মেটাল ইনজেকশন ছাঁচনির্মাণ, নিকেল অ্যালয় মেটাল ইনজেকশন ছাঁচনির্মাণ, নিকেল অ্যালয় মেটাল ইনজেকশন ছাঁচনির্মাণ। ছাঁচনির্মাণ, টংস্টেন অ্যালয় মেটাল ইনজেকশন ছাঁচনির্মাণ একটি ব্যাপক উচ্চ প্রযুক্তির এন্টারপ্রাইজ যা R&D, ইনজেকশন ছাঁচনির্মাণ, সিমেন্টেড কার্বাইড ধাতু ইনজেকশন ছাঁচনির্মাণ, এবং পাউডার ধাতুবিদ্যা কাঠামোগত অংশগুলির উত্পাদন এবং বিক্রয় একীভূত করে।


পণ্য পরিচিতি

1. বাস্তবায়নের মান: কোম্পানি কঠোরভাবে ISO9001, ISO14001, IATF16949 সার্টিফিকেশন প্রয়োগ করে এবং পণ্যগুলি ROHS, FDA EU সার্টিফিকেশন ইত্যাদি পাস করেছে।

2. কোভার এমআইএম যন্ত্রাংশ উপাদান মান: ISO, GB, ASTM, SAE, EN, DIN, BS, AMS, JIS, ASME, DMS, TOCT, GB

3. প্রধান প্রক্রিয়া: ধাতু ইনজেকশন ছাঁচনির্মাণ MIM, পাউডার ধাতুবিদ্যা PM, বিনিয়োগ ঢালাই, ডাই-কাস্টিং অ্যালুমিনিয়াম

4. পাউডার ধাতুবিদ্যার জন্য উপলব্ধ উপকরণ:

কপার অ্যালয়, আয়রন বেস, টাইটানিয়াম অ্যালয়, স্টেইনলেস স্টিল বেস, অ্যালুমিনিয়াম অ্যালয়, নিকেল অ্যালয়, কোবাল্ট অ্যালয়, টংস্টেন অ্যালয়, সিমেন্টেড কার্বাইড, হাইড্রক্সি অ্যালয়, নরম ম্যাগনেটিক ম্যাটেরিয়াল এবং 3ডি প্রিন্টিং গ্রাহকের প্রয়োজনীয়তা অনুযায়ী কাস্টমাইজ করা যায়।


4J29 খাদ কোভার খাদ নামেও পরিচিত। খাদটির একটি রৈখিক প্রসারণ গুণাঙ্ক রয়েছে বোরোসিলিকেট হার্ড গ্লাসের অনুরূপ 20-450 ডিগ্রীতে, একটি উচ্চতর কুরি পয়েন্ট, এবং ভাল নিম্ন-তাপমাত্রা মাইক্রোস্ট্রাকচার স্থায়িত্ব।

সুবিধা: ভাল কম তাপমাত্রা টিস্যু স্থায়িত্ব

প্রযোজ্য যন্ত্র: পারদ নিঃসরণ ধারণকারী যন্ত্র

উপাদান গ্রেড: 4J29

প্রযুক্তিগত মান: "Fe-Ni-Co গ্লাস সিলিং অ্যালয় 4J29 এবং 4J44 প্রযুক্তিগত শর্ত"

4J29 খাদ কোভার খাদ নামেও পরিচিত। খাদটির একটি রৈখিক প্রসারণ গুণাঙ্ক রয়েছে বোরোসিলিকেট হার্ড গ্লাসের অনুরূপ 20-450 ডিগ্রীতে, একটি উচ্চতর কুরি পয়েন্ট, এবং ভাল নিম্ন-তাপমাত্রা মাইক্রোস্ট্রাকচার স্থায়িত্ব। খাদের অক্সাইড ফিল্ম ঘন এবং কাচের দ্বারা ভালভাবে ভেজা যায়। এটি পারদের সাথে মিথস্ক্রিয়া করে না এবং পারদ স্রাব ধারণকারী মিটারে ব্যবহারের জন্য উপযুক্ত। এটি বৈদ্যুতিক ভ্যাকুয়াম ডিভাইসগুলির প্রধান সিলিং কাঠামো উপাদান।


●অনুরূপ গ্রেড

রাশিয়া মার্কিন যুক্তরাষ্ট্র যুক্তরাজ্য জাপান ফ্রান্স জার্মানি

29HK কোভার নিলো কে কেভি-1 ডিলভার পি0 ভ্যাকন 12

29HK-BИ রডার কেভি-2

Techallony Glasseal 29-17 Telcaseal KV-3 Dilver P1 Silvar 48


●প্রযুক্তিগত মান

YB/T 5231-1993 "Fe-Ni-Co গ্লাস সিলিং অ্যালয় 4J29 এবং 4J44 প্রযুক্তিগত অবস্থা"।


●রাসায়নিক রচনা

C {{0}} এর থেকে কম বা সমান৷{4}}3 শতাংশ Mn কম বা সমান 0.50 শতাংশ Si কম বা সমান {{ 10}.30 শতাংশ P 0.020 শতাংশ S এর থেকে কম বা সমান 0.20 শতাংশের চেয়ে বা সমান

নি=28৷{1}}.5 শতাংশ কো=16৷{4}}.8 শতাংশ

Fe=উদ্বৃত্ত

যে শর্তে গড় রৈখিক সম্প্রসারণ সহগ স্ট্যান্ডার্ডে পৌঁছায়, নিকেল এবং কোবাল্টের বিষয়বস্তু সারণি {{0}}-এ নির্দিষ্ট পরিসর থেকে বিচ্যুত হওয়ার অনুমতি দেওয়া হয়। অ্যালুমিনিয়াম, ম্যাগনেসিয়াম, জিরকোনিয়াম এবং টাইটানিয়ামের পরিমাণ প্রতিটি 0.10 শতাংশের বেশি হওয়া উচিত নয় এবং মোট পরিমাণ 0.20 শতাংশের বেশি হওয়া উচিত নয়।


●তাপ চিকিত্সা ব্যবস্থা

স্ট্যান্ডার্ডে নির্দিষ্ট করা সম্প্রসারণ সহগ এবং নিম্ন তাপমাত্রার মাইক্রোস্ট্রাকচার স্থায়িত্বের জন্য কর্মক্ষমতা পরীক্ষার নমুনাগুলিকে হাইড্রোজেন বায়ুমণ্ডলে 900 ডিগ্রি ±20 ডিগ্রিতে উত্তপ্ত করা হয়, 1 ঘন্টার জন্য রাখা হয়, তারপর 1100 ডিগ্রি ±20 ডিগ্রিতে উত্তপ্ত করা হয় এবং 15 মিনিটের জন্য রাখা হয়। তাপমাত্রা 5 ডিগ্রি / মিনিটের বেশি নয় গতি 200 ডিগ্রির নিচে শীতল করা হয়।


●অ্যাপ্লিকেশন ওভারভিউ

খাদ হল একটি সাধারণ Fe-Ni-Co হার্ড গ্লাস সিলিং অ্যালয় যা সাধারণত বিশ্বে ব্যবহৃত হয়। এটি স্থিতিশীল কর্মক্ষমতা সহ এভিয়েশন কারখানায় দীর্ঘ সময়ের জন্য ব্যবহার করা হয়েছে। এটি মূলত বৈদ্যুতিক ভ্যাকুয়াম উপাদান যেমন লঞ্চ টিউব, অসিলেটর টিউব, ইগনিশন টিউব, ম্যাগনেট্রন, ট্রানজিস্টর, সিল করা প্লাগ, রিলে, ইন্টিগ্রেটেড সার্কিট সীসা তার, চ্যাসিস, শেল, বন্ধনী ইত্যাদির গ্লাস সিল করার জন্য ব্যবহৃত হয়। কাচকে খাদটির সম্প্রসারণ সহগের সাথে মিলে যাওয়া উচিত। কঠোরভাবে ব্যবহার তাপমাত্রা অনুযায়ী তার নিম্ন তাপমাত্রা টিস্যু স্থায়িত্ব পরীক্ষা. উপাদানের ভাল গভীর অঙ্কন বৈশিষ্ট্য আছে তা নিশ্চিত করার জন্য প্রক্রিয়াকরণের সময় উপযুক্ত তাপ চিকিত্সা করা উচিত। Forgings ব্যবহার করার সময়, তাদের বায়ু নিবিড়তা কঠোরভাবে চেক করা উচিত।


● সাংগঠনিক কাঠামো

1.5-এ উল্লিখিত হিট ট্রিটমেন্ট সিস্টেম অনুসারে অ্যালয়কে চিকিত্সা করার পরে, এবং তারপরে -78.5 ডিগ্রিতে হিমায়িত করা হয়, মার্টেনসিটিক কাঠামো 4 ঘন্টার বেশি বা সমান হওয়া উচিত নয়। যাইহোক, যখন খাদ সংমিশ্রণ উপযুক্ত নয়, তখন বিভিন্ন ডিগ্রী অস্টিনাইট ( ) থেকে অ্যাসিকুলার মার্টেনসাইট ( ) রূপান্তর ঘরের তাপমাত্রায় বা নিম্ন তাপমাত্রায় ঘটবে এবং রূপান্তরটি আয়তনের প্রসারণের সাথে হবে। খাদটির সম্প্রসারণ সহগ সেই অনুযায়ী বৃদ্ধি পায়, যার ফলে সিলিং অংশের অভ্যন্তরীণ চাপের তীব্র বৃদ্ধি এবং এমনকি আংশিক ক্ষতি হয়। খাদের নিম্ন তাপমাত্রার মাইক্রোস্ট্রাকচারের স্থায়িত্বকে প্রভাবিত করার প্রধান কারণ হল খাদের রাসায়নিক গঠন। Fe-Ni-Co টারনারি ফেজ ডায়াগ্রাম থেকে দেখা যায় যে ফেজকে স্থিতিশীল করার জন্য নিকেল হল প্রধান উপাদান, এবং একটি উচ্চ নিকেল উপাদান ফেজের স্থায়িত্বের জন্য সহায়ক। খাদটির মোট বিকৃতির হার বৃদ্ধির সাথে সাথে এর মাইক্রোস্ট্রাকচার আরও স্থিতিশীল হতে থাকে। খাদ কম্পোজিশনের বিভাজন স্থানীয় → রূপান্তর ঘটাতে পারে। উপরন্তু, মোটা শস্য এছাড়াও → রূপান্তর প্রচার করবে.


ইলেকট্রনিক্স শিল্পে, প্যাকেজড চিপস এবং কিছু উপাদানকে সীসা ফ্রেমের মাধ্যমে অন্যান্য সার্কিটের সাথে বৈদ্যুতিকভাবে সংযুক্ত করতে হবে। বড় আকারের ইন্টিগ্রেটেড সার্কিট এবং অতি-বড়-স্কেল ইন্টিগ্রেটেড সার্কিটগুলির বিকাশের সাথে, সার্কিটগুলির তারের ঘনত্ব উচ্চ এবং উচ্চতর হচ্ছে। সীসা ফ্রেমের আকৃতি এবং ঘনত্বের জন্য প্রয়োজনীয়তা (লাইন প্রস্থ এবং লাইন ব্যবধান) আরও জটিল এবং পরিশীলিত হয়ে উঠছে। ব্যবহারের উদ্দেশ্য এবং বস্তু অনুসারে, প্রায়শই 4J29 খাদ অংশগুলির পৃষ্ঠে ইলেক্ট্রোপ্লেটিং চিকিত্সা চালানোর প্রয়োজন হয়। নির্দিষ্ট প্রলেপ প্রজাতি নির্বাচন এবং ইলেক্ট্রোপ্লেটিং প্রক্রিয়া নির্ধারণ নির্দিষ্ট ব্যবহারের প্রয়োজনীয়তা পূরণের জন্য নির্ধারণ করা উচিত। একটি সীসা ফ্রেম হিসাবে 4J29 খাদ জন্য, আরো এটি ইলেক্ট্রোপ্লেটিং Ni/Au বা Ni/Pd/Au প্রক্রিয়া।


এই গবেষণার মূল উদ্দেশ্য হল প্রযুক্তিগত সমস্যা সমাধান করা যা একটি এন্টারপ্রাইজকে দীর্ঘকাল ধরে জর্জরিত করেছে, অর্থাৎ 4J29 অ্যালয় পাতলা সীসা ফ্রেম প্রায়শই Ni/Au ইলেক্ট্রোপ্লেটিং প্রক্রিয়ায় ঘটে। পণ্যের হার 60 শতাংশে পৌঁছেছে। উত্পাদন সাইটের তদন্তের মাধ্যমে, এটি পাওয়া গেছে যে ধাতুপট্টাবৃত অংশগুলির পাতলা লাইনের ফাটল এবং আবরণের স্থানীয় ক্র্যাকিং প্রধানত নিকেল ইলেক্ট্রোপ্লেটিং লিঙ্কে ঘটেছিল। প্রাথমিক বিশ্লেষণের পরে, এটি নির্ধারিত হয় যে উপরে উল্লিখিত মানের সমস্যার প্রধান কারণ "অভ্যন্তরীণ চাপ" দ্বারা সৃষ্ট বিরূপ প্রভাব হতে পারে। প্রচুর সংখ্যক সাহিত্যের পর্যালোচনার ভিত্তিতে, এই গবেষণা গোষ্ঠীটি প্রি-প্লেটিং চিকিত্সা প্রক্রিয়া, ইলেক্ট্রোপ্লেটিং দ্রবণের গঠন এবং প্রক্রিয়ার শর্তাবলী, বিশেষত সংযোজন নির্বাচন এবং ব্যবহার পরিবর্তন করে আবরণের অভ্যন্তরীণ চাপকে হ্রাস করে। পরীক্ষাটি সফলভাবে উপরে উল্লিখিত মানের সমস্যাগুলি সমাধান করেছে এবং পরোক্ষভাবে প্রমাণ করেছে যে আবরণ ফাটলের প্রধান কারণ "অভ্যন্তরীণ চাপ"। এন্টারপ্রাইজের প্রকৃত উত্পাদন এবং প্রয়োগের পরে, প্রভাবটি উল্লেখযোগ্য, এবং ত্রুটিপূর্ণ হার 2 শতাংশের নিচে স্থিরভাবে নিয়ন্ত্রণ করা হয়।


1. পরীক্ষাটি তুলনা করার পদ্ধতি গ্রহণ করে, 200 বার ম্যাগনিফাইং গ্লাসের মাধ্যমে প্রক্রিয়া পরিবর্তন বা সামঞ্জস্য করার আগে এবং পরে পাতলা সীসা আবরণের চেহারার গুণমান সাবধানে পর্যবেক্ষণ করুন এবং তারপরে পাতলা তার ভাঙা বা ফাটল কিনা তা পর্যবেক্ষণ করতে একক-টুকরো নমন পরীক্ষা। পাতলা লাইনের সংখ্যা গণনা করা হয়, এবং ত্রুটিপূর্ণ হার গণনা করা হয়। ত্রুটিপূর্ণ হার=পরীক্ষার প্রতি ব্যাচের ত্রুটিপূর্ণ পাতলা লাইনের সংখ্যা / পরীক্ষার প্রতিটি ব্যাচে পাতলা লাইনের মোট সংখ্যা। 1.1 উপাদান প্রস্তুতি এবং প্রক্রিয়া পরীক্ষা পরীক্ষায় ব্যবহৃত 4J29 অ্যালয় লিড ফ্রেমের আসল শীটটি একটি কোম্পানি দ্বারা সরবরাহ করা হয়েছে, একটি একক শীটের আকার 1.5 সেমিx1.2 সেমি, লিড ফ্রেম লাইনের প্রস্থ হল 0.1 ~ 0.2 মিমি, এবং লাইনের ব্যবধান হল 1.5 সেমি x 1.2 সেমি। O. 33 ~ 0.38 মিমি এর জন্য, পুরুত্ব 0.2 মিমি, এবং একক-পিস লাইনের সংখ্যা 24। কোম্পানী নিজেই 4J29 শীট কিনেছে এবং এটিকে এচিং করার জন্য একটি এচিং কারখানায় পাঠিয়েছে। খোদাই করা পাতলা সীসা ফ্রেমগুলি স্ব-প্লেটিং এর জন্য কোম্পানিতে ফেরত দেওয়া হয়েছিল। অন-সাইট তদন্তের পর, এচিং প্ল্যান্টটি ফটোকেমিক্যাল প্যাটার্ন ট্রান্সফার এবং অ্যাসিড এচিং প্রযুক্তি দ্বারা তৈরি করা হয়েছিল। উত্পাদন প্রক্রিয়াটি নিম্নরূপ: 4J29 শীট - rinsing - চিত্রগ্রহণ - এক্সপোজার - উন্নয়নশীল - এচিং - স্পর্শ - rinsing - শুকানো।

পরীক্ষায় ব্যবহৃত রাসায়নিক পদার্থ সব ইলেক্ট্রোপ্লেটিং গ্রেড। ইলেক্ট্রোপ্লেটিং প্রক্রিয়া হল: ফ্রেম - তাপ চিকিত্সা - অতিস্বনক ডিগ্রীজিং - ওয়াটার ওয়াশিং - ইলেক্ট্রোলাইটিক ডিগ্রীজিং - ওয়াটার ওয়াশিং - ওয়াটার ওয়াশিং - এচিং - ওয়াটার ওয়াশিং - নিকেল ইলেক্ট্রোপ্লেটিং - ওয়াটার ওয়াশিং - অ্যাক্টিভেশন - ওয়াটার ওয়াশিং - গোল্ড ইলেক্ট্রোপ্লেটিং - সিলিং - ওয়াটার ওয়াশিং - শুকানো - পরিদর্শন


1.2 ইলেক্ট্রোপ্লেটিং প্রক্রিয়া স্পেসিফিকেশন আসল শীটের তাপ চিকিত্সার জন্য প্রক্রিয়া স্পেসিফিকেশন দেখুন।

অতিস্বনক degreasing উদ্দেশ্য অংশ পৃষ্ঠের সব ধরনের ময়লা অপসারণ করা হয়. কর্মক্ষম তরলের গঠন এবং প্রক্রিয়ার অবস্থা হল: ট্রাইসোডিয়াম ফসফেট 15৷{1}}৷{2}} g/L, সোডিয়াম কার্বনেট 10৷{4}}৷{8}} g/L , OP-10 0৷{7}}৷{9}} g/L, সোডিয়াম ডোডেসিলবেনজিন সালফোনেট 0৷{10}}.0 g/L, তাপমাত্রা {{12} }} ডিগ্রি , সময় 10-15 মিনিট, অতিস্বনক ফ্রিকোয়েন্সি 30 kHz। অংশগুলির পৃষ্ঠের ময়লা সম্পূর্ণরূপে অপসারণের উদ্দেশ্য অর্জনের জন্য, অতিস্বনক ডিগ্রীজিংয়ের ভিত্তিতে ইলেক্ট্রোকেমিক্যাল ডিগ্রীজিং করা হয়। ওয়ার্কপিসের চাপকে প্রভাবিত করা থেকে "হাইড্রোজেন ভ্রান্তি" এর ঘটনা রোধ করার জন্য, এই প্রক্রিয়াটি সরাসরি অ্যানোডিক ইলেক্ট্রোলাইটিক ডিগ্রেসিং গ্রহণ করে। উপযুক্ত সংযোজন নির্বাচন করে এবং অ্যানোড বর্তমান ঘনত্ব নিয়ন্ত্রণ করে, অ্যানোডিক ইলেক্ট্রোলাইটিক ডিগ্রেসিং দ্বারা উত্পন্ন অক্সিজেন (বা অক্সিজেন) অংশগুলিকে অতিরিক্ত অক্সিডাইজ হওয়া থেকে আটকাতে পারে। ক্ষয়

এর কার্যকারী তরল গঠন এবং প্রক্রিয়ার অবস্থা হল: সোডিয়াম হাইড্রক্সাইড 20৷{1}}৷{5}} g/L, সোডিয়াম মেটাসিলিকেট পেন্টাহাইড্রেট 10৷{4}}৷ {10} g/L, সোডিয়াম ডোডেসিল সালফেট O. 5-1.0 g/L, ওয়াটার সফটনার 3৷{9}}.0 g/L, তাপমাত্রা 40-50 ডিগ্রি , বর্তমান ঘনত্ব 2৷{13}}.0 A/dm, সময় 20-30 s, অ্যানোড উপাদান এটি একটি স্টেইনলেস স্টিল শীট৷ প্রধান লবণ হিসাবে নিকেল সালফামেট সহ ইলেক্ট্রোপ্লেটিং দ্রবণ ব্যবহার করা হয়।

সায়ানাইড দুর্বল অ্যাসিড গোল্ড প্লেটিং দ্রবণ ব্যবহার করে, গোল্ড প্লেটিং দ্রবণের গঠন এবং প্রক্রিয়া শর্তগুলি হল: পটাসিয়াম গোল্ড সায়ানাইড 12৷{1}}৷{2}} g/L, পটাসিয়াম ডাইহাইড্রোজেন ফসফেট 2৷{4}}৷ 0 g/L, লেবু পটাসিয়াম অ্যাসিড 2{{10}}~25 g/L, অ্যান্টিমনি পটাসিয়াম টারট্রেট 5৷{9}}৷{15}} g/L, pH মান 5-6, তাপমাত্রা 40-50 ডিগ্রি , ক্যাথোড বর্তমান ঘনত্ব 0৷{14}}.0 A/dm, anode উপাদান হল প্ল্যাটিনাম টাইটানিয়াম জাল৷

আবরণের পৃষ্ঠের অবশিষ্ট লবণ দূর করতে বিশুদ্ধ পানি বা গরম বিশুদ্ধ পানি দিয়ে পুঙ্খানুপুঙ্খভাবে পরিষ্কার করুন এবং প্রয়োজনে বিবর্ণতা রোধ করতে রাসায়নিক নিষ্ক্রিয়করণ করা যেতে পারে।

2. ফলাফল এবং আলোচনা 2.1 আবরণের মানের উপর মূল শীটের তাপ চিকিত্সার প্রভাব সীসা ফ্রেমের উপাদানগুলির বৈশিষ্ট্যগুলির মধ্যে প্রাথমিক এবং মাধ্যমিক বৈশিষ্ট্য অন্তর্ভুক্ত রয়েছে। প্রাথমিক বৈশিষ্ট্যগুলি পদার্থের শারীরিক, যান্ত্রিক এবং রাসায়নিক বৈশিষ্ট্যগুলিকে বোঝায়। সেকেন্ডারি বৈশিষ্ট্যগুলি স্ট্যাম্পিং, এচিং, ইলেক্ট্রোপ্লেটিং, ব্রেজিং, এনক্যাপসুলেশন এবং জারা প্রতিরোধের বৈশিষ্ট্যগুলিকে বোঝায়। সীসা ফ্রেম শীট স্ট্যাম্পিং, এচিং, ইত্যাদি দ্বারা প্রক্রিয়াকরণের পরে, পৃষ্ঠের অবশিষ্ট স্ট্রেস মান বড় এবং অসম হয়, যা দুর্বল গৌণ বৈশিষ্ট্যগুলির কারণের চাবিকাঠি।

এই গবেষণায়, একটি এন্টারপ্রাইজের বিদ্যমান 4J29 অ্যালয় ফ্রেম ইলেক্ট্রোপ্লেটিং নিকেল-গোল্ড (বা নিকেল-প্যালাডিয়াম-গোল্ড) প্রক্রিয়া উন্নত করার পদ্ধতিগুলির মধ্যে একটি হল 4J29 অ্যালয় ফ্রেম ইলেক্ট্রোপ্লেটিং-এর আগে তাপ চিকিত্সা করা, যাতে অবশিষ্ট মেশিনিং চাপ দূর করা যায়। অংশ গঠিত হয় পরে অংশ. এবং অ্যাসিড এচিং এর সময় যে অংশগুলি ঘটতে পারে তার উপর "হাইড্রোজেন এমব্রিটলমেন্ট" চাপের প্রভাব। তাপ চিকিত্সা তাপমাত্রা নির্বাচন নীতি হল: চিকিত্সার উদ্দেশ্য অর্জন করা হয়েছে তা নিশ্চিত করার ভিত্তিতে, দানা খুব বেশি বৃদ্ধি পাবে না। কোল্ড অ্যালয়টি 700-1000 ডিগ্রীতে অ্যানিল করার পরে, যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্যগুলি l1 পরিবর্তিত হবে। অতএব, এই গবেষণায় 4J29 অ্যালয় ফ্রেমটি নয় স্ট্রেস হিট ট্রিটমেন্ট তাপমাত্রা 420-450 ডিগ্রি, এবং তাপ সংরক্ষণ হল 120 ​​বৃষ্টি। পরীক্ষার ফলাফলগুলি সারণি 3 এ দেখানো হয়েছে। এখানে 10টি একক টুকরা এবং 240টি পাতলা সীসা রয়েছে এবং নিম্নলিখিত গবেষণার সংখ্যা একই।

পরীক্ষামূলক ফলাফলগুলি দেখায় যে ফ্রেমের তাপ চিকিত্সা নিকেল-ধাতুপট্টাবৃত হওয়ার পরে, পাতলা লাইনগুলির ফাটলটি মূলত নির্মূল হয়, ইলেক্ট্রোপ্লেটেড নিকেল স্তরের স্থানীয় ফাটলগুলিও উল্লেখযোগ্যভাবে হ্রাস পায় এবং ফাটলের প্রস্থ সংকুচিত হয়, তবে সমস্যা পণ্যের গুণমান কার্যকরভাবে সমাধান করা যাবে না।

2.2 আবরণের মানের উপর ইলেক্ট্রোপ্লেটিং দ্রবণের রচনার প্রভাব

2.2.1 আবরণের মানের উপর ইলেক্ট্রোপ্লেটিং দ্রবণের প্রকারের প্রভাব অনেক ধরণের নিকেল-প্লেটিং ইলেক্ট্রোপ্লেটিং দ্রবণ রয়েছে, সাধারণত ব্যবহৃত হয় সালফেট টাইপ, সালফেট মনোক্লোরাইড টাইপ, ক্লোরাইড টাইপ এবং সালফামেট টাইপ, যার মধ্যে সালফামেট নিকেল অ্যাসিড আবরণ। অন্যান্য ধরণের নিকেল আবরণের তুলনায় অনেক কম চাপযুক্ত [02]। এই গবেষণায় ডিজাইন করা সালফামেট-টাইপ নিকেল প্লেটিং প্রক্রিয়াটি একটি এন্টারপ্রাইজের বিদ্যমান ওয়াট-টাইপ নিকেল প্লেটিং প্রক্রিয়ার সাথে তুলনামূলক পরীক্ষা চালানোর জন্য ব্যবহৃত হয়েছিল। পরীক্ষামূলক ফলাফলগুলি দেখায় যে যখন আবরণের তুলনামূলকভাবে ছোট অভ্যন্তরীণ চাপ সহ সালফামেট টাইপ ইলেক্ট্রোপ্লেটিং দ্রবণটি ওয়াট টাইপ ইলেক্ট্রোপ্লেটিং দ্রবণ প্রতিস্থাপনের জন্য নির্বাচন করা হয়, তখন পণ্যের ত্রুটিযুক্ত হার অনুরূপভাবে হ্রাস পায়।

2.2.2 আবরণের মানের উপর অ্যাডিটিভের প্রকারের প্রভাব, সালফামেট ইলেক্ট্রোপ্লেটিং দ্রবণের অন্যান্য উপাদান এবং কাজের অবস্থা অপরিবর্তিত থাকে এবং আবরণের মানের উপর অ্যাডিটিভের প্রকারের প্রভাব অধ্যয়ন করা হয়। পরীক্ষামূলক ফলাফল দেখায় যে অন্যান্য শর্ত অপরিবর্তিত থাকে। নিম্নলিখিত অবস্থার অধীনে, 1,5-ন্যাপথালিন ডিসালফোনিক অ্যাসিড থিওরিয়া বা স্যাকারিনকে সংযোজনকারী প্লেটিং দ্রবণ হিসাবে নির্বাচিত করা হয় এবং সূক্ষ্ম রেখার ত্রুটিপূর্ণ হার তুলনামূলকভাবে কম। নিকেল-ধাতুপট্টাবৃত স্তরের উজ্জ্বল প্রভাবের সাথে তুলনা করে, স্যাকারিনকে একটি সংযোজন হিসাবে ব্যবহার করার উজ্জ্বল প্রভাব অন্যান্য সংযোজনগুলির তুলনায় উল্লেখযোগ্যভাবে বেশি।

2.2.3 আবরণ মানের উপর সংযোজন বিষয়বস্তুর প্রভাব সারণি 2-এ সালফামেট ইলেক্ট্রোপ্লেটিং দ্রবণের অন্যান্য উপাদান এবং কাজের শর্তগুলি স্থির করা হয়েছিল, এবং আবরণের মানের উপর ইলেক্ট্রোপ্লেটিং অ্যাডিটিভ স্যাকারিনের বিষয়বস্তুর প্রভাব অধ্যয়ন করা হয়েছিল। এই শর্তে যে অন্যান্য অবস্থা অপরিবর্তিত থাকে, নিকেল-ধাতুপট্টাবৃত স্তরের গুণমানের উপর স্যাকারিনের ঘনত্বের প্রভাব সুস্পষ্ট। ঘনত্ব বৃদ্ধির সাথে, ত্রুটিপূর্ণ হার হ্রাস পায় এবং একটি সর্বনিম্ন মান প্রদর্শিত হয়। যখন ভর ঘনত্ব 0.4 g/L থেকে 0 .5 g/L পর্যন্ত বৃদ্ধি পায়, ত্রুটিপূর্ণ হার আবার বৃদ্ধি পায়। অতএব, স্যাকারিনের ভর ঘনত্ব হওয়া উচিত 0৷{10}}.4 g/L.

2.3 আবরণের মানের উপর ইলেক্ট্রোপ্লেটিং কাজের অবস্থার প্রভাব 2.3.1 আবরণের মানের উপর ক্যাথোড কারেন্ট ঘনত্বের প্রভাব টেবিল 2-এ সালফামেট ইলেক্ট্রোপ্লেটিং দ্রবণের গঠন, ঘনত্ব এবং কাজের অবস্থা অপরিবর্তিত রয়েছে, যার মধ্যে অ্যাডিটিভ (স্যাকারিন) ) ভর ঘনত্ব { {6}}। যে শর্তে অন্যান্য অবস্থা অপরিবর্তিত থাকে, নিকেল প্লেটিং স্তরের গুণমানের উপর বর্তমান ঘনত্বের প্রভাব আরও স্পষ্ট। যখন 0 A/dm বেড়ে 6৷{14}} A/dm, ত্রুটিপূর্ণ হার উল্লেখযোগ্যভাবে বেড়ে যায়৷ অতএব, নিয়ন্ত্রণ বর্তমান ঘনত্ব 3 হওয়া উচিত।{16}}।{17}} A/dm.

2.3.2 আবরণ স্তরের গুণমানের উপর ইলেক্ট্রোপ্লেটিং কার্যকরী দ্রবণের তাপমাত্রার প্রভাব টেবিল 2-এ সালফামেট ইলেক্ট্রোপ্লেটিং দ্রবণের অন্যান্য উপাদান, বিষয়বস্তু এবং কাজের অবস্থা অপরিবর্তিত রয়েছে এবং সংযোজন (স্যাকারিন) এর ভর ঘনত্ব 0৷{5}}.4 g/L, বর্তমান ঘনত্ব 3৷{8}}৷{9}} A/dm, আবরণের মানের উপর তাপমাত্রার প্রভাব অধ্যয়ন করা হয়, এবং ফলাফলগুলি সারণি 8 এবং চিত্র 3-এ দেখানো হয়েছে। এটি চিত্র 3 থেকে দেখা যায় যে অন্যান্য শর্ত অপরিবর্তিত থাকে, নিকেল-ধাতুপট্টাবৃত স্তরের গুণমানের উপর ইলেক্ট্রোপ্লেটিং দ্রবণের তাপমাত্রার প্রভাব স্পষ্ট। তাপমাত্রা বৃদ্ধির সাথে সাথে ত্রুটির হার হ্রাস পায় এবং সর্বনিম্ন মান দেখায়। যখন তাপমাত্রা 70 ডিগ্রিতে পৌঁছায়, ত্রুটির হার উল্লেখযোগ্যভাবে বৃদ্ধি পায়। অতএব, 50 থেকে 60 ডিগ্রি তাপমাত্রা নিয়ন্ত্রণ করা উপযুক্ত।

3 উপসংহার 1) 4J29 সীসা ফ্রেমের ইলেক্ট্রোপ্লেটিং পরে সূক্ষ্ম রেখা ভাঙ্গন এবং ইলেক্ট্রোপ্লেটিং স্তরের ফাটল রোধ করার জন্য একটি নতুন ইলেক্ট্রোপ্লেটিং প্রক্রিয়া পদ্ধতি তৈরি করা হয়েছিল। 2) তাপ চিকিত্সার জন্য সর্বোত্তম প্রক্রিয়া হল: তাপমাত্রা 420-450 ডিগ্রী, ধরে রাখার সময় 12{{10}} মিনিট, এবং প্রাকৃতিক ঠাণ্ডা দ্বারা ঘরের তাপমাত্রায় শীতল করা। নিকেল ইলেক্ট্রোপ্লেটিং এর সর্বোত্তম কাজের অবস্থা হল: নিকেল সালফামেট 250-350 g/L, বোরিক অ্যাসিড 25-35 g/L, ওয়েটিং এজেন্ট (K12) 0.01 g/L, স্যাকারিন 0। 3-0.4 g /L, pH মান 3-5, তাপমাত্রা 50-60 ডিগ্রি , বর্তমান ঘনত্ব 3৷{18}}.0 A/dm. 3) এন্টারপ্রাইজের প্রকৃত ব্যবহারের পরে, এবং প্রতি একক অংশে 10 বার নমুনা নেওয়া হয় 90. নমন পরীক্ষায়, নতুন প্রক্রিয়ার পণ্য ত্রুটির হার স্থিরভাবে 2 শতাংশের নিচে নিয়ন্ত্রিত হয়, এবং অন্যান্য কর্মক্ষমতা পরীক্ষাগুলি পণ্যের গুণমানের প্রয়োজনীয়তা পূরণ করে।


অনুসন্ধান পাঠান

(0/10)

clearall